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    日期:2022-04-13 格式:.docx 页数:6页 大小:861KB 发布:
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    日期:2022-04-18 格式:.pptx 页数:85页 大小:518KB 发布:
  • xssy景深.ppt

    单击此处编辑母版标题样式景 深通俗定义:摄影上把景物空间内能成清晰影像的纵向深度范围成为景深景深的概念调焦物平面景深的形成原因 1焦点(focus) 与光轴平行的光线射入凸透镜时理想的镜头应该是所有的光线聚集在一点后再以锥状的扩散开来这个聚集所有光线的一点就叫做焦点 2弥散圆和容许弥散圆 在焦点前后光线开始聚集和扩散点的影象变成模糊的形成一个扩大的圆

    日期:2022-04-12 格式:.pptx 页数:17页 大小:880.5KB 发布:
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    2008高教社杯全国大学生数学建模竞赛A题评阅要点[说明]本要点仅供参考各赛区评阅组应根据对题目的理解及学生的解答自主地进行评阅靶标上圆的像是椭圆但圆心的像一般不是椭圆的形心对给定的坐标系由相片可获取靶标圆的像的边界坐标数据根据这些边界点的原像落在靶标平面且落在对应圆周上的性质利用光学成像原理可建立确定靶标平面方程和靶标圆的圆心坐标的非线性方程组数学模型进而求得靶标圆心像的坐标模型求解可直接

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    单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级??北航仪器光电学院工程光学(上)第六章 光线的光路计算及像差理论May 28 2013一基本概念第一节 概 述单色像差光学系统对单色光成像所产生的像差球差慧差像散场曲畸变色 差由不同波长引起折射率的不同造成的成像位置和大小也不同位置色差倍率色差

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    : : 班级: 试验时间: 地点: 指导老师:光刻实验一.实验目的了解光刻在集成电路工艺中的作用熟悉光刻工艺的步骤和操作二.实验原理集成电路工艺的光刻成像术是将为数众多的电子零件和线路一层一层地转换到一个微小的晶片上每一层均有一片掩膜板靠着光学成像原理光线经过掩膜版透镜而成像在晶片表面上晶片表面必须有如照相底片般的物质存在属于可感光的胶质化合

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    单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级和眼睛照相机 胶片 照相机的构造主要有:镜头 胶片 光圈快门调焦环等照相机是利用凸透镜能聚集光线并拍下物体的像的原理制成的 照相机原理:镜头胶片照相机镜头相当于 胶片相当于 照相机成像示意图:照相机的制作材料:凸透镜纸盒半透明的纸剪刀胶水操作流程:眼睛—

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    第一章3一物体经针孔相机在?屏上成一60mm大小的像若将屏拉远50mm则像的大小变为70mm求屏到针孔的初始距离?????解:在同种均匀介质空间中光线直线传播如果选定经过节点的光线则方向不变令屏到针孔的初始距离为x则可以根据三角形相似得出: ????????所以x=300mm?????????即屏到针孔的初始距离为300mm4一厚度为200mm的平行平板玻璃(设n=1.5)下面放一直径为1m

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