由溶胶凝胶旋转涂布技术制备纳米二氧化钛薄膜的结构及光学调查二氧化钛薄膜上沉积了清洁玻璃以及溶胶凝胶旋转涂布法基板所制备的TiO2薄膜已退火(350??450?C和550?丙)不同的温度对薄膜的结构性能进行了研究利用X射线衍射法和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)作为沉积薄膜已被发现在自然界中无定形的结晶质量得到了改善与观察到退火温度退火后TiO2薄膜表现出已发现锐钛矿相的光学性能进行了研究用
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级一薄膜的制备★薄膜生长:热氧化★薄膜淀积(沉积): PVD(Physical Vapor-phase Deposition) 物理气相淀积(蒸发溅射) CVD(Chemical Vapor-phase Deposition ) 化学气相淀积(APCVDLPCVD
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第四章 离子镀膜4—1 离子镀原理4—2 离子镀的特点4—3 离子轰击的作用4—4 离子镀的类型第一部分:薄膜的获得概述(12) 离子镀膜(Ion Plating)技术(简称离子镀)是在真空蒸发和真空溅射技术基础上发展起来的一种新的
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级化学气相淀积定义:指使一种或数种物质的气体以某种方式激活后在衬底发生化学反应并淀积出所需固体薄膜的生长技术其英文原名为 Chemical Vapour Deposition简称为 CVD本章主要内容: CVD薄膜的动力学模型常用系统及制备常用薄膜的工艺第六章 化学气相淀积20224211(1)CVD成膜温度远低于体材料的熔
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级电子科学与技术系 固体电子学教学实验 金属薄膜的制备与测试实验一实验目的要求目的1了解真空系统的组成各部分的作用 掌握真空的获得与测量目的2学习真空蒸发制备金属薄膜原理和方法 学习直流溅射制备金属薄膜原理和方法 目的3研究制备工艺对薄