单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级Introducing Ion Implantation Process定义离子注入: 就是使待掺杂的原子(或分子)电离成离子再加速到一定的能量使之注入到晶体中然后经过退火使杂质激活达到掺杂的目的 离子注入掺杂退火示意图注入Si中的BP离子将形成空穴或电子从而形成P型N型掺杂通过离子注入及其他工序作业后最终形成的

 TOC o 1-3 h z u  HYPERLINK l _Toc265412310 1．引言 PAGEREF _Toc265412310 h 1 HYPERLINK l _Toc265412311 2．离子注入工艺 PAGEREF _Toc265412311 h 1 HYPERLINK l _Toc265412312 2.1简介 PAGEREF _Toc