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哈工大微电子工艺3掺杂工艺.ppt
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级微电子工艺(3) --定域掺杂工艺田丽1第3章 扩散扩散是微电子工艺中最基本的平面工艺在900-1200℃的高温杂质(非杂质)气氛中杂质向衬底硅片的确定区域内扩散又称热扩散目的是通过定域定量扩散掺杂改变半导体导电类型电阻率或形成PN结2内容3.1 杂质扩散机构3.2 扩散系数与扩散方程3.3 扩散杂质的分布3
日期：2022-04-11 格式：.pptx 页数：144页 大小：7.31MB 发布：
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