#光刻胶特性# 相关文档
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基本光刻工艺流程.ppt
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第八章 基本光刻工艺流程 光刻的目的和意义第四章已做过简单的描述这一章主要介绍基本光刻工艺中的表面准备至曝光的工艺步骤及光刻胶的特性8.1 简介 光刻工艺首先是 在晶园表面建立尽可 能接近设计规则中所 要求尺寸的图形其 次是在晶园表面正确 定位图形 因为最终的图形是用多个掩膜
日期：2022-04-12 格式：.pptx 页数：42页 大小：2.46MB 发布：
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