单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级真空镀膜研究性课题(参考)在物教做定量研究薄膜厚度与镀膜条件的关系尝试合金的制备与表征尝试金属多层膜的制备与表征研究使金属薄膜与基底结合牢固的方法制备用于卢瑟福散射实验的金属薄膜尝试在FTO衬底上热蒸发镀Ti然后再阳极氧化制备TiO2纳米管阵列定量研究薄膜厚度与镀膜条件的关系真空镀膜制备的薄膜厚度与镀膜的功率材料衬底温度以及镀

单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级2012-8-1??单击此处编辑母版标题样式真空镀膜VS水电镀原理设备优势及劣势比较蒸发镀膜机磁控溅射镀膜机 真空镀膜与水电镀优劣势比较 真空镀膜VS水电镀

单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第四章 离子镀膜4—1 离子镀原理4—2 离子镀的特点4—3 离子轰击的作用4—4 离子镀的类型第一部分：薄膜的获得概述(12) 离子镀膜(Ion Plating)技术(简称离子镀)是在真空蒸发和真空溅射技术基础上发展起来的一种新的镀膜技术在真空条件下应用气体放电实现镀膜即在真空室中使气体或被蒸发物质电

平面靶原理磁控溅射技术是目前最重要的工业化大面积真空镀膜技术之一溅射技术的历史发展如图3-1所示从中可以看出发展的驱动力主要来自：降低工艺成本解决工艺难题和满足进一步提高薄膜性能的工艺参数优化前者于靶材利用率沉积速率薄膜均匀性以及溅射过程稳定性等方面的问题后者由于低能离子轰击在薄膜沉积过程中的重要作用主要要求增加溅射原子离化率和能独立控制调节微观等离子体工艺参数等以更好地满足实际镀膜工艺