#微影蚀刻# 相关文档
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半导体蚀刻技术.doc
简介?在积体电路制造过程中常需要在晶圆上定义出极细微尺寸的图案(图案)这些图案主要的形成方式乃是藉由蚀刻(蚀刻)技术将微影(微光刻)后所产生的光阻图案忠实地转印至光阻下的材质上以形成积体电路的复杂架构因此蚀刻技术在半导体制造过程中占有极重要的地位?广义而言所谓的蚀刻技术包含了将材质整面均匀移除及图案选择性部份去除的技术而其中大略可分为湿式蚀刻(湿蚀刻)与干式蚀刻(干式蚀刻)两种技术?早期半导
日期：2022-04-17 格式：.docx 页数：33页 大小：187KB 发布：
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