《MOCVD技术在光电薄膜方面的应用及其最新进展》摘要：随着科技的发展MOCVD技术在光电薄膜的方面的应用越来越广泛在技术上主要的特点是温度控制系统压力和压差控制技术及MOCVD技术优缺点有关MOCVD技术在光电薄膜方面的新应用和发展趋势关键字：MOCVD技术 半导体材料 气态源 液态源 微电子 光电子引言近年来随着半导体工业的发展以及高速光电信息时代的来临LPEVPE等技术在半

序号名称规格型号数量1有机薄膜真空沉积系统一功能要求：该薄膜真空沉积系统原理是在真空容器中将蒸镀材料(有机小分子或金属原料)加热当达到适当温度后大量的分子或离子离开蒸镀材料的表面形成气体流在高真空条件下分子或离子从蒸发源迁徙到基体的过程中不发生碰撞因此迁徙过程中无能量损耗当它们遇到基体后便停留于基体表面随着蒸镀时间的延长在基体表面沉积形成薄膜主要用于各种光电薄膜器件的科学研究:在量子点发光二

26 6 2005 6 CHIN ESE J OURNAL OF SEMICONDUCTORSVol. 26 No. 6J une 20053 ( :J A03009) 1966 . Email :sycheng pub3. fz. fj. 2004207228 2004212221 Z 2005 SnS 3 1 2 2 2 1(1 350002)(2 350002) : p H