ITO薄膜性能及制成技术的发展 一 前言 真正进行透明导电薄膜材料的研究工作还是19世纪末当时是在光电导的材料上获得很薄的金属薄膜经历一段很长时间后的第二次世界大战期间关于透明导电材料的研究才进入一个新的时期于是开发了由宽禁带的n型简并半导体SnO2材料主要应用于飞机的除冰窗户玻璃在1950年第二种透明半导体氧化物In2O3首次被制成特别是在In2O3里掺入锡以后使这种材料在透明导电

ITO透明導電薄膜的研究現狀及應用透明導電薄膜的研究現狀及應用????2004-2-18 ????透明導電薄膜的研究現狀及應用?????????? 李世濤 喬學亮 陳建國????(武漢華中科技大學模具技術國家重點實驗室)????????????摘要：綜述了當前透明導電薄膜的最新研究和應用狀況重點討論了ITO膜的光電性能和當前的研究焦點指出了目前需要進一步從材料選擇工藝參數制定多膜光學設計等方