第1章 集成电路的基本制造工艺 一般TTL集成电路与集成运算放大器电路在选择外延层电阻率上有何区别为什么 答:集成运算放大器电路的外延层电阻率比一般TTL集成电路的外延层电阻率高第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应复 习 思 考 题 利用截锥体电阻公式计算TTL与非门输出管的其图形如图题所示 提示:先求截锥体的高度 - 然后
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学生实验报告系别电子信息学院课程名称 电子技术实验班级11电科实验名称电流镜和基准电压源的设计 李财娟实验时间2014年3月27日2011010201029指导教师张华斌成绩教师签名 张华斌批改时间2014年 月 日报 告 内 容一实验目的和任务使学生熟练掌握cadence软件学会建立schematic和virtuoso单元库应用该软件提供的工艺库设计电路图并在此基础上建立电
半导体集成电路识别与测试??? ?集成电路是发展最快的电子元器件用于电子技术的各个方面种类繁多而且新品种层出不穷这里仅从应用的角度介绍常用集成电路的类别封装引脚识别等应用知识集成电路的分类??? ?1. 按制造工艺和结构分类?? ?可分为:半导体集成电路膜集成电路混合集成电路通常所说的集成电路指的就是半导体集成电路膜集成电路又可分为薄膜和厚膜两类膜集成电路和混合集成电路一般用于专用集成电路通
6.2 半导体集成电路的可靠性设计军用半导体集成电路的可靠性设计是在产品研制的全过程中以预防为主加强系统管理的思想为指导从线路设计版图设计工艺设计封装结构设计评价试验设计 原材料选用软件设计等方面采取各种有效措施力争消除或控制半导体集成电路在规定的条件下和规定时间内可能出现的各种失效模式从而在性能费用时间(研制生产周期)因素综合平衡的基础上实现半导体集成电路产品规定的可靠性指标根据内建可靠性
从能带理论的角度说明金属、半导体及绝缘体。这三种材料的电子能级都形成一系列的能带,能带和能带之间形成能量的禁区。电子在填充能带时,先占据低能带,再占据高能带。对于金属,最高一个被电子占据的能带是半满带,因此电子可以自由导电。对于半导体,在绝对零度时,最高一个被电子占据的能带完全被电子填满(此能带被定义为价带),而最低一个电子空着的能带完全没有电子(此能带被定义为导带),这样没有导电的电子,不导
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半导体物理习题解答1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量Ev(k)分别为:Ec(k)=和Ev(k)= -m0为电子惯性质量k112aa试求:①禁带宽度②导带底电子有效质量③价带顶电子有效质量④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化[解] ①禁带宽度Eg根据0可求出对应导带能量极小值Emin的k值:kmin由题中EC式可得:EminEC(K)k=k
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