平衡磁控溅射放电和薄膜沉积磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,较之蒸发镀膜,在很多方面优势相当明显。作为一项已经发展较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。磁控溅射技术得以广泛的应用,是由该技术有别于其它镀膜方法的特点所决定的。可归纳为:(1)可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料,包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质,尤其适合高熔点和低蒸汽压材料的沉积镀膜
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单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级直流磁控溅射镀膜与膜表征重庆工学院 材料科学实验室实验性质与对象1性质:综合性实验2学时数:8学时3对象:材料工程表面工程方向4注意事项:服从实验老师安排依照操作规程细致地开展试验步骤实验报告评分细则项目分值比例备 注实验名称355实验目的5实验原理原理图及必要的文字说明15实验设备器材(全部) 10实验操作步骤5020(详实
磁控溅射镀膜简介 溅射薄膜靶材按其不同的功能和应用可大致分为机械功能膜相物理功能膜两大类前者包括耐摩减摩耐热抗蚀等表面强化薄膜材料固体润滑薄膜材料 后者包括电磁声光等功能薄膜材料靶材等 具体应用在玻璃涂层 (各种建筑玻璃ITO透明导电玻璃家电玻璃高反射后视镜及亚克力镀膜) 工艺品装饰镀膜 高速钢刀具镀膜 切削刀具镀膜 太阳能反光材料镀膜 光电半导体光磁储存媒体被动组件平面显示器微机电光学组件及各
第 37 卷 增刊
8 实验一 真空蒸发和磁控溅射制备薄膜 27组 101190071 卿云本实验主要介绍真空蒸发、磁控溅射两种常用而有效的制备薄膜的工艺,以便通过实际操作对典型的薄膜工艺的原理和基本操作过程有初步的了解。实验目的通过实验掌握磁控溅射、真空蒸发制备薄膜的基本原理,了解磁控溅射、真空蒸发制备薄膜的过程独立动手,学会利用磁控溅射、真空蒸发技术制备薄膜通过本实验对真空系统、镀膜系统以及辉光放电等物理现象有
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