大桔灯文库logo

下载提示:1. 本站不保证资源下载的准确性、安全性和完整性,同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,大桔灯负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。

相关文档

  • _.ppt

    桂林电子科技大学单晶从原料到磨光晶片的制造流程(1)若初始掺杂重量为C0M0积分(4)可得定义一有效分凝系数悬浮区熔法砷化镓晶体的生长技术-起始材料材料特性-晶片切割面缺陷-孪晶和晶粒间界外延是在单晶上生长一层同质或异质的薄膜层衬底晶片可以作为晶体籽晶与先前描述的单晶生长不同在于外延生长温度低于熔点许多(3050)常见的外延工艺有:CVD和MBE化学气相沉积(CVD)也称为气相外延(Vapor-p

  • -.ppt

    晶体是在物相转变的情况下形成的物相有三种即气相液相和固相由气相液相?固相时形成晶体固相之间也可以直接产生转变 2.晶体形成的热力学条件(掌握)热力学条件满足后晶体开始生长晶体生长的一般过程是先形成晶核然后再逐渐长大.三个生长阶段: 介质达到过饱和或者过冷却阶段 成核阶段nucleation(均匀成核非均匀成核) 生长阶段crystal growth一个细小的晶体出现后是否能长大决

  • 速率起伏层.doc

    第八章 生长速率起伏和生长层晶体生长速率起伏影响杂质分凝于是杂质分布出现生长层生长层影响晶体质量及均匀性微区均匀性但它又是研究晶体生长机制的有利工具§1 生长条纹(旋涡)生长速率引起杂质起伏适应于稳态分凝生长层形态旋转生长层热场中心与晶体旋转几何中心不重合偏心距大生长起伏愈大在直拉法中设在稳态温场下且固液界面的温度恒为凝固温度Tm生长速率等于单位时间内晶体相对于T=Tm等温面的位移先求生长

  • 2极管场效管.ppt

       单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级    单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级    单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级    单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级 第 2 章 晶体三极管和场效晶体管本章学习目标2.1 晶体三极管2.2 场效晶体

  • .ppt

    钻石1与矿物学的关系2与基础学科 -数学 物理学化学的关系3与应用技术科学部门 -有的直接以晶体为研究对象:选矿学陶瓷工艺学水泥工艺学玻璃工艺学 -有的直接应用晶体作为核心部件如半导体超声波激光技术等技术领域性质:非金属专业重要专业基础课 晶体分单晶和多晶两类 单晶指的是单晶体主要是天然的矿物晶体和人造的晶体材料如:天然的水晶长石萤石和人造的云母单晶硅金刚石红宝石等

  • 2--.ppt

    #

  • 9012-PNP管(极管).doc

    9012 - PNP外延型晶体管(三极管)9012 - PNP EPITAXIAL SILICON TRANSISTOR 创建时间:2005-12-30 最后修改时间:2006-10-29 简述9012是一种最常用的普通三极管它是一种低电压大电流小信号的PNP型硅三极管 特性集电极电流Ic:Max -500mA集电极-基极电压Vcbo: -40V工作温度:-55℃ to 150℃和 901

  • 7.ppt

    #

  • 7-异质.ppt

    异质外延:不同材料之间的外延生长.立方结构若采用异质结 发射区采用能带带隙较宽的材料(带隙增大ΔEg)相对与原来的同质结npn晶体管:定义失配应变:(b) (部分)弛豫通过失配位错消除晶格失配.a=ae 外延层是未应变的.应力:单位面积的应变能:若ε=f则系统是赝晶体位错空间距离为无限大若ε=0则系统完全弛豫位错的空间距离S=bf若系统是部分弛豫的则位于两者之间赝晶体的外延薄膜的临界厚度(Matt

  • .doc

    #

违规举报

违法有害信息,请在下方选择原因提交举报


客服

顶部