#
#
孟凡明 等 :退火温度对 TiO
摘 要双层辉光(以下简称双辉)等离子表面合金化是具有我国独立知识产权居世界领先水平的高技术是表面工程技术的重要分支之一该技术是在离子氮化的基础上发展起来的它较好地解决了提供欲渗活性金属原子方面的问题将仅能进行非金属元素渗入的离子氮化技术拓宽成为能进行所有金属元素非金属元素渗入的等离子渗金属技术开创了等离子表面冶金的新领域普通碳钢进行双辉等离子低温表面渗镀铬提高其耐磨性耐腐蚀性抗高温氧化性从
由溶胶凝胶旋转涂布技术制备纳米二氧化钛薄膜的结构及光学调查二氧化钛薄膜上沉积了清洁玻璃以及溶胶凝胶旋转涂布法基板所制备的TiO2薄膜已退火(350??450?C和550?丙)不同的温度对薄膜的结构性能进行了研究利用X射线衍射法和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)作为沉积薄膜已被发现在自然界中无定形的结晶质量得到了改善与观察到退火温度退火后TiO2薄膜表现出已发现锐钛矿相的光学性能进行了研究用
氮化钛氮化钛是一种新型的多功能金属陶瓷材料它的熔点高硬度大摩擦系数小是热和电的良导体首先氮化钛是用于高强度的金属陶瓷工具喷汽推进器以及火箭等优良的结构材料另外氮化钛有较低的摩擦系数可作为高温润滑剂氮化钛合金用作轴承和密封环可显示出优异的效果氮化钛有较高的导电性可用作熔盐电解的电极以及点触头薄膜电阻等材料氮化钛有较高的超导临界温度是优良的超导材料尤其引人注目的是氮化钛涂层及其烧结体具有令人满意
濺鍍法製程條件對濺鍍薄膜特性影響之探討 所謂濺鍍(sputtering deposition)乃是利用高能粒子(通常是由電場加速的正離子)撞擊靶材表面藉由動量轉換將靶材表面物質濺出而後在基板上沉積而形成薄膜 1.濺鍍環境? 基板上薄膜之沈積初始於佈滿在晶片上的許多粒子或氣體分子這些粒子可能因經歷表面擴散運動而失去部份動能之後被晶片表面吸附而沈積也有可能因為跟其他粒子或氣體分子反應而產生固
#
违法有害信息,请在下方选择原因提交举报