大桔灯文库logo

下载提示:1. 本站不保证资源下载的准确性、安全性和完整性,同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,大桔灯负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。

相关文档

  • .doc

    #

  • 1.doc

    #

  • 工艺.doc

    #

  • .pdf

    #

  • 的精馏.doc

    三氯氢硅的精馏在三氯氢硅合成工序生成经合成气干法分离工序分离出来的氯硅烷液体送入氯硅烷贮存工序的原料氯硅烷贮槽在三氯氢硅还原工序生成经还原尾气干法分离工序分离出来的氯硅烷液体送入氯硅烷贮存工序的还原氯硅烷贮槽在四氯化硅氢化工序生成经氢化气干法分离工序分离出来的氯硅烷液体送入氯硅烷贮存工序的氢化氯硅烷贮槽原料氯硅烷液体还原氯硅烷液体和氢化氯硅烷液体分别用泵抽出送入氯硅烷分离提纯工序的不同精馏塔中从原

  • 还原制备高纯多晶.doc

    三氯氢硅氢还原制备高纯多晶硅1.高纯多晶硅生产工艺简介 20世纪50年代联邦德国西门子研究开发出大规模生产多晶硅的技术即通常所说的西门子工艺多晶硅生产的西门子工艺其原理就是在表面温度 1100℃左右的高纯硅芯上用高纯氢还原高纯含硅反应物使反应生成的硅沉积在硅芯上改良西门子方法是在传统西门子方法的基础上具备先进的节能低耗工艺可有效回收利用生产过程中大量的SiCl4 HClH2等副产物以及

  • .doc

    第二章 氯化氢合成一氯化氢的性质氯化氢(HCl)分子量36.5密度1.63gL是无色具有刺激性臭味的气体极易溶于水在标准条件下1体积水中可溶解500体积的HCl气体干燥的HCl腐蚀性较小而HCl溶液(盐酸)却有强腐蚀性原因是在水分子的作用下HCl发生了电离产生大量的CLCL可与多种物质发生反应特别是和金属发生化学反应因此为了使设备不受盐酸腐蚀具有更长的使用寿命生产HCl时应该用干燥的氢气和氯

  • 和多晶市场分析.doc

    三氯氢硅和多晶硅市场分析目前世界上生产多晶硅主要有三氯氢硅法硅烷法另外一种用高纯SiO2在一定条件下用超纯碳还原得到多晶硅 一第一种SiHCl3法是目前被国际国内大多数厂家所采用的工艺技术比较成熟缺点是能耗高副产物:SiCl4量很大(1:12—15)第二种硅烷法它直接用硅矿作原料还原多晶硅优点是:能耗低成本低(不用金属硅不用SiHCl3)质量好缺点是安全隐患大几年前在日本用此工艺发生过

  • 及下游产品调研报告.doc

    三氯氢硅及下游产品调研报告三氯氢硅是合成有机硅的重要中间体也是制备多晶硅的主要原料目前国内市场上三氯氢硅供不应求缺口较大而生产三氯氢硅的主要原料是硅粉氯气氢气因此很适合在氯碱企业作为下游产品进行开发生产工业制法流程生产三氯氢硅的工艺流程包括:氯化氢合成三氯氢硅合成三氯氢硅分离等工序(1)氯化氢合成(2)三氯氢硅合成将硅粉卸至转动圆盘通过管道用气体输送至硅粉仓再加入硅粉干燥器经过圆盘给料机并计量后加

  • 理化性质与质量指标.doc

    三氯氢硅理化性质与质量指标 三氯氢硅的基本概况三氯氢硅别名:三氯硅烷硅氯仿英文名称:Trichlorosilane或silicochloroform分 子 式:SiHCl3分 子 量: 编号:10025-78-2结 构 式:图 三氯氢硅结构式三氯氢硅用于有机硅烷和烷基芳基以及有机官能团氯硅烷的合成是有机硅烷偶联剂中最基本的单体也是生产半导体硅单晶硅的原料我国经济的飞速发展尤其是精细化工有机硅产

违规举报

违法有害信息,请在下方选择原因提交举报


客服

顶部