单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级 双极集成电路的基本制造工艺问题:1 图中埋层外延位置及各自的作用 2 外延制造有什么要求埋层外延埋层:减少晶体管集电极的串联电阻减少寄生pnp管的影响外延:提高击穿电压BVcbo寄生pnpnpn备注:STTL :SCHOTTKY TRANSISTOR-TRANSISTOR LOGICDTL : DIODE TR
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CH7 双极集成电路的正向设计 Click to edit Master title styleClick to edit Master text stylesSecond levelThird levelFourth levelFifth level集成电路设计概论西安交通大学微电子学系刘润民第 7 章 集成电路设计概述 概 述 集成电路设计包括逻辑(功能)设计电路设计版图设计和
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Title of this SliceFirst Subtitel2nd level3rd Level4th Level5th Level东?南?大?学 射?频?与?光?电?集?成?电?路?研?究?所第四章集成电路器件工艺4.1 双极型集成电路的基本制造工艺4.2 MESFET和HEMT工艺4.3 MOS工艺和相关的VLSI工艺4.4 BiCMOS工艺1
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(3)电解法 铁镍铬铜锌等的粉末都可用电解法制造粉末冶金成形用的粉末主要是铁粉和铜粉电解粉末纯度高颗粒呈树枝状或针状其压制性和烧结性都很好但生产率低成本高电解铁粉价格高仅用于纯度要求高的场合或用来制造高密度零件 2. 特殊成形法 粉末成形的传统方法是钢压模成形但压力机的能力和压模的设计水平是影响 压坯尺寸和形状的重要因素所以传统的粉末冶金件的尺寸质量较小形状也较简单 随着科学技术的发展人们
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第十二章 集成测试东北大学软件学院测试层次集成测试的方法东北大学软件学院 基于分解的集成; 基于调用图的集成; 基于路径的集成; SATM系统东北大学软件学院SATM系统的15个屏幕东北大学软件学院SATM系统的功能分解树东北大学软件学院SATM系统的功能分解大纲SATM系统的功能分解树1A10BCDE1113121415243576891617F22181920212425262723SATM系
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