第二章TFT显示器的制造工艺流程和工艺环境要求第一节 阵列段流程一主要工艺流程和工艺制程 (一)工艺流程 (二)工艺制程1成膜:PVDCVD2光刻:涂胶图形曝光显影3刻蚀:湿刻干刻4脱膜二辅助工艺制程1清洗2打标及边缘曝光3AOI4MicMac观测5成膜性能检测(RS meterProfileRESEFTIR)6OS电测7TEG电测8阵列电测9激光修补三返工工艺流程PR返工Film返工四