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曹飞 个人版总结引言第一只晶体管?第一只晶体管 ATT Bell Lab 1947?第一片单晶锗 1952?第一片单晶硅 1954 (25mm1英寸)?第一只集成电路(IC) TI 1958?第一只IC商品 Fairchild 1961摩尔定律晶体管最小尺寸的极限?价格保持不变的情况下晶体管数每12月翻一番1980s后下降为每18月翻一番?最小特征尺寸每3年减小70?价格每2年下降50IC的
单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级天津工业大学单击此处编辑母版标题样式Chap.10 工艺集成集成电路中的隔离1CMOS集成电路的工艺集成234双极集成电路的工艺集成BiCMOS集成电路的工艺集成天津工业大学工艺集成: ——运用各类工艺形成电路结构的制造过程CMOS集成电路的工艺集成双极型集成电路的工艺集成BiCMOS集成电路的工艺集成天津工业大学§10.1 集成电路中的隔离
单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级天津工业大学单击此处编辑母版标题样panyLOGO单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式天津工业大学Chap.10 工艺集成集成电路中的隔离1CMOS集成电路的工艺集成234双极集成电路的工艺集成BiCMOS集成电路的工艺集成天津工业大学工艺集成: ——运用各类工艺形成电路结构的制造过程CMOS集成电路
课程名称 : 电路基础实验集成电路制造技术微芯片涉及的5个大的制造阶段 1、硅片制备 2、工艺制造 3、硅片测试/拣选 4、装配与封装 5、终测1、硅片制备单晶生长圆片制备单晶生长观看 单晶生长 圆片制备 观看 圆片制备硅片制备2、工艺制造氧化扩散离子注入光刻等离子刻蚀物理气相淀积氧化扩散观看 氧化扩散离子注入观看 离子注入 光刻观看 光刻等离子刻蚀观看 等离子刻蚀
毕业设计(论文)专 业 班 次 姓 名 指导老师 成都信息工程学院 二零零九年六月Created with an evaluation copy of Aspose.Words. To discover the full versions of our APIs please visit: :products.asposewords
深圳大学期末考试特殊考试方式电子科学与技术学院集成电路工艺原理期末成绩考核报告::深圳大学考试答题纸(以论文报告等形式考核专用)二○一四二○一五学年度第 一 学期课程编号1600730001课程名称集成电路工艺原理主讲教师杨靖评分学 号姓 名专业年级微电子2012级-12班教师评语:要 求本报告(作业)必须是完全独立完成没有抄袭或节选选本课程其他同学的作业如果确认是抄袭(
单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式第三章 集成电路工艺基础 集成电路的制造需要非常复杂的技术它主要由半导体物理与器件专业负责研究IC设计者可以不去深入研究但是有必要了解芯片设计中的工艺基础知识才能根据工艺技术的特点优化电路设计方案对于电路和系统设计者来说更多的是工艺制造的能力而不是工艺的具体实施过程集成电路设计与制造的主要流程框架设计芯片检
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