Dec2003
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低温等离子体天然气转化 新工艺研究Study on the New Technology of Conversion of Natural Gas Through Low Temperature Plasma(申请硕士学位)(中国石化总科技发展基金:X500005)学科专业:化学工艺 研 究 生:夏满银 指导教师:许根慧 教授天津大学化工学院 二零零三年十二月独创性声明本人声明所呈交的学位论文
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2010年38卷第 1期
2 00 9 年第 l6 卷第
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技术进展
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等离子体化学气相沉积(PECVD)NH3SiH4真空400℃高频光放电Si3N4·H刻蚀后硅片H2过量的SiH4Si3N4沉积在硅片表面形成一层薄膜硅片HWR-4型不锈钢硅烷燃烧塔丝网印刷化学反应式: SiH4 NH3→Si3N4H2↑NH3的存在有利于活性的流动和扩散提高了薄膜的生长速度淀积速率可达30nmmin并大大降低了淀积温度 :
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