复习思考题与自测题原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同 答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在没有一个固定的轨道而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子在晶体周期性势场中运动当原子互相靠近结成固体时各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层和孤立原子一样然而外层价电子则参与原
1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量Ev(k)分别为:Ec(k)=和Ev(k)= -m0为电子惯性质量k112aa试求:①禁带宽度②导带底电子有效质量③价带顶电子有效质量④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化[解] ①禁带宽度Eg根据0可求出对应导带能量极小值Emin的k值:kmin由题中EC式可得:EminEC(K)k=kmin=由题中EV
半导体物理习题解答1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量Ev(k)分别为:Ec(k)=和Ev(k)= -m0为电子惯性质量k112aa试求:①禁带宽度②导带底电子有效质量③价带顶电子有效质量④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化[解] ①禁带宽度Eg根据0可求出对应导带能量极小值Emin的k值:kmin由题中EC式可得:EminEC(K)k=k
习题 半导体中的电子状态什么叫本征激发温度越高本征激发的载流子越多为什么试定性说明之试定性说明GeSi的禁带宽度具有负温度系数的原因试指出空穴的主要特征1-4简述GeSi和GaAS的能带结构的主要特征1-5某一维晶体的电子能带为其中E0=3eV晶格常数a=5х10-11m求:能带宽度能带底和能带顶的有效质量升高则禁带宽度变窄跃迁所需的能量变小将会有更多的电子被激发到导带中解:电子的共有化运
10 半导体物理习题解答第一章 晶体结构1、(1)底心立方结构是布拉伐格子,其格子为简正方格子,三个原基矢分别为(2)侧面心立方和(3)边心立方结构均非布拉伐格子。侧面心立方结构由三套简立方格子套构而成,边心立方结构由四套简立方格子套构而成,其格子均为简立方格子。2、略3、略4、略5、正格子倒格子 原基矢和倒基矢分别为 原胞原子数为2,面积为第二章 晶格振动和晶格缺陷该双原子链的周期或晶格常数为
第五章习题 1. 在一个n型半导体样品中过剩空穴浓度为1013cm-3 空穴的寿命为100us计算空穴的复合率2. 用强光照射n型样品假定光被均匀地吸收产生过剩载流子产生率为空穴寿命为? (1)写出光照下过剩载流子所满足的方程 (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度3. 有一块n型硅样品寿命是1us无光照时电阻率是10??cm今用光照射该样品光被半导体均匀的吸收电子-空穴对的产生率是
从能带理论的角度说明金属、半导体及绝缘体。这三种材料的电子能级都形成一系列的能带,能带和能带之间形成能量的禁区。电子在填充能带时,先占据低能带,再占据高能带。对于金属,最高一个被电子占据的能带是半满带,因此电子可以自由导电。对于半导体,在绝对零度时,最高一个被电子占据的能带完全被电子填满(此能带被定义为价带),而最低一个电子空着的能带完全没有电子(此能带被定义为导带),这样没有导电的电子,不导
半导体物理典型习题与解答一、固体物理基础知识二 、半导体晶体结构与能带三、半导体中的电子状态四、 半导体中杂质和缺陷五、半导体的导电性六、非平衡少数载流子七、PN结八、肖特基势垒九、MOS电容
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第四章习题及答案1. 300K时Ge的本征电阻率为47?cm如电子和空穴迁移率分别为3900cm2( V.S)和1900cm2( V.S) 试求Ge 的载流子浓度解:在本征情况下由知2. 试计算本征Si在室温时的电导率设电子和空穴迁移率分别为1350cm2( V.S)和500cm2( V.S)当掺入百万分之一的As后设杂质全部电离试计算其电导率比本征Si的电导率增大了多少倍解:300K
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