第五章习题 1. 在一个n型半导体样品中过剩空穴浓度为1013cm-3 空穴的寿命为100us计算空穴的复合率2. 用强光照射n型样品假定光被均匀地吸收产生过剩载流子产生率为空穴寿命为? (1)写出光照下过剩载流子所满足的方程 (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度3. 有一块n型硅样品寿命是1us无光照时电阻率是10??cm今用光照射该样品光被半导体均匀的吸收电子-空穴对的产生率是
第五章习题 1. 在一个n型半导体样品中过剩空穴浓度为1013cm-3 空穴的寿命为100us计算空穴的复合率2. 用强光照射n型样品假定光被均匀地吸收产生过剩载流子产生率为空穴寿命为? (1)写出光照下过剩载流子所满足的方程 (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度3. 有一块n型硅样品寿命是1us无光照时电阻率是10??cm今用光照射该样品光被半导体均匀的吸收电子-空穴对的产
第四章习题及答案1. 300K时Ge的本征电阻率为47?cm如电子和空穴迁移率分别为3900cm2( V.S)和1900cm2( V.S) 试求Ge 的载流子浓度解:在本征情况下由知2. 试计算本征Si在室温时的电导率设电子和空穴迁移率分别为1350cm2( V.S)和500cm2( V.S)当掺入百万分之一的As后设杂质全部电离试计算其电导率比本征Si的电导率增大了多少倍解:300K
第二章习题 1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么 答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上实际半导体中原子不是静止的而是在其平衡位置附近振动 (2)理想半导体是纯净不含杂质的实际半导体含有若干杂质 (3)理想半导体的晶格结构是完整的实际半导体中存在点缺陷线缺陷和面缺陷等2. 以As掺入Ge中为例说明什么是施主杂质施主杂质电离过程和
复习思考题与自测题原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同 答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在没有一个固定的轨道而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子在晶体周期性势场中运动当原子互相靠近结成固体时各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层和孤立原子一样然而外层价电子则参与原
1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量Ev(k)分别为:Ec(k)=和Ev(k)= -m0为电子惯性质量k112aa试求:①禁带宽度②导带底电子有效质量③价带顶电子有效质量④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化[解] ①禁带宽度Eg根据0可求出对应导带能量极小值Emin的k值:kmin由题中EC式可得:EminEC(K)k=kmin=由题中EV
中北大学电子科学与技术系 第5章 载流子输运现象本章学习要点:1. 掌握载流子漂移运动的机理及其电流密度 掌握迁移率电导率电阻率的概念及影响因素 2. 掌握载流子扩散运动的机理及其电流密度 掌握扩散系数的概念3. 掌握爱因斯坦关系了解半导体材料中非均匀掺杂 带来的影响4. 了解半导体材料中霍尔效应的基本原理及其分析方 法 在第4章中学习了热平衡状态下半导体材
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第五章 化学平衡?? 在某恒定的温度和压力下取的A(g)进行如下化学反应??????????????????????????? 若试证明当反应进度时系统的吉布斯函数G值为最小这时A B间达化学平衡????????????????????????????????????已知四氧化二氮的分解反应???????????????????? ?????? 在 K时试判断在此温度及下列条件下反应进行的方向(1
半导体物理学第二章习题1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么 答:(1)理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上实际半导体中原子不是静止的而是在其平衡位置附近振动 (2)理想半导体是纯净不含杂质的实际半导体含有若干杂质 (3)理想半导体的晶格结构是完整的实际半导体中存在点缺陷线缺陷和面缺陷等2. 以As掺入Ge中为例说明什么是施主杂质施主杂质电离过
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