孟凡明 等 :退火温度对 TiO
第39 卷 第1 期
第24 卷 第 2 期
第43卷第1期
第19 卷 第12 期
第 29卷 第4期
退火处理对等离子体显示器中氧化镁薄膜特性的影响电子束蒸发法制备的氧化镁薄膜在退火处理过程中特性的变化.研究表明:退火处理改善了薄膜的结晶性降低了红外光谱中水分子吸收峰的强度并使得低温或低通氧气量制备的氧化镁薄膜的可见光透射比下降且这些薄膜在退火处理中极易产生裂纹.薄膜的结晶取向或结晶性是薄膜可见光谱变化和表面裂纹产生的主要原因薄膜表面光洁度对可见光谱变化影响不大. :
第 27 卷 第 2 期
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Vol45 No7
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