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第16 卷第 2 期
sicl4的转化有热氢化冷氢化两种技术冷氢化是sih2sicl4---sihcl3 请问前辈们在实际生产中应用冷氢化技术是以下2种路线中的哪种(如有其他也望指正):1以si液氯为原料将还原多晶硅生产过程中产生的sicl4进行sih2sicl4---sihcl3的反应后经过精馏后利用sihcl32直接将sicl4做原料 =NzY5NzkyfDRiNGFlZGVjfDEzMDg0NjAwMjh8M
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退火处理对等离子体显示器中氧化镁薄膜特性的影响电子束蒸发法制备的氧化镁薄膜在退火处理过程中特性的变化.研究表明:退火处理改善了薄膜的结晶性降低了红外光谱中水分子吸收峰的强度并使得低温或低通氧气量制备的氧化镁薄膜的可见光透射比下降且这些薄膜在退火处理中极易产生裂纹.薄膜的结晶取向或结晶性是薄膜可见光谱变化和表面裂纹产生的主要原因薄膜表面光洁度对可见光谱变化影响不大. :
第28卷第8期
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