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湖南大学
第 37 卷 增刊
影响磁控溅射均匀性的因素王军生 童洪辉 赵嘉学 韩大凯 戴彬(核工业西南物理研究院)摘 要: 用中频孪生靶磁控溅射实验平台对影响磁控溅射生成的薄膜厚度均匀性的因素进行了实验结果表明磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素针对实验结果提出了用磁场和气体相互配合达到高的镀膜均匀性关键词:磁控溅射 磁场 气体 均匀性中图分类号O539磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标
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万方数
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第 26 卷 第 3 期
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