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Silvaco学习E-Mail: 3命令MASK导入掩膜主要参数及说明如下:掩膜也可以由Maskviews编辑得到Layout命令可以描述掩膜特征Layoutlayout =-2 =2 =-1 =1Projection11例句:Bake定义对光阻的后曝光和后坚膜时的烘烤Silvaco学习纵向视图:D光刻版图案:(负胶光致抗蚀有金属图案处会被刻蚀掉)SS 谢谢
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HSPICE仿真工具的介绍:一.HSPICE 的特点与结构HSPICE 除了具备绝大多数SPICE 特性外还具有许多新的特点主要有:1.优越的收敛性2.精确的模型参数包括许多Foundry 模型参数3.层次式节点命名和参考4.基于模型和库单元的电路优化逐项或同时进行ACDC 和瞬态分析中的优化5.具备蒙特卡罗(Monte Carlo)和最坏情况(worst-case)分析6.对于参数化单元的输入出
合成氨工艺仿真净化工段使用说明书北京东方仿真软件技术有限2009年1月 : PAGE : 地址:北京市朝阳区安外小关东里10号院润宇大厦610室 邮编:100029 PAGE 16E-mail: :010-64951832 : 目录 TOC o 1-3 h z u l _Toc163620521 第一章 概述
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