习题画出当WmWs,和WmWs时p型Si与金属接触的能带图。标出功函数、电子亲和势、费米能级、势垒等相应的符号。1)若把一块金属和一块P型半导体紧密接触,并假定金属的功函数大于P型半导体的功函数,即。它们接触前后的能带如图所示。(a)接触前 (b)接触后由于半导体的费米能级大于金属的费米能级,即,所以电子将从半导体流向金属,半导体能带向上弯曲,最后达到平衡时具有统一的费米能级,形成P型反阻挡层
半导体器件基本结构 金属/绝缘体/半导体结构微电子学院 张贺秋直流电容-电压特性N-MOS-C(p-sub)P-MOS-C(n-sub)金属绝缘体半导体理想MIS结构:不存在界面陷阱和其它氧化层电荷;在直流偏置条件下,没有通过绝缘体的载流子输运,即绝缘体的电阻率为无穷大;为了简化,假设选择的金属功函数和半导体功函数之差为零。理想MIS电容M ISMIS电容曲线知识点:1、掌握p-MOS,n-MO
半导体器件基本结构微电子学院 张贺秋整流特性:正向导通;反向截止。PN结具有单向导电性开启电压死区正向特性反向特性pn结二极管的直流电学特性?小电流大注入IV07V串联电阻实际pn结二极管电流-电压Why?★pn结:pn结的形成(热平衡,理想情况)载流子的扩散运动建立内电场内电场对载流子的作用扩散运动和漂移运动达到动态平衡,交界面形成稳定的空间电荷区,即 pn结P区N区pn结分析导电特性的几个
习题1、画出当WmWs,和WmWs时p型Si与金属接触的能带图。标 出功函数、电子亲和势、费米能级、势垒等相应的符号。2、室温(RT)下画出n+poly Si/SiO2/p-Si结构的热平衡、正偏、反偏时的能带简图。(n+ poly Si: EF=EC;EgSi=112eV,EgSiO2=890eV q?Si=405eV,q?SiO2=090eV)思考题pn结存在内建电场,在n区与p区之间存在
半导体器件基本结构参考:半导体器件物理,施敏,第三版微电子学院张贺秋PassivationBond PadMetal2IMD1IMD1Metal1BPSGSilicon SubstrateP+Silicon Epi LayerP-P- WellN- WellN+ DrainP+ DrainP+ SourceIMD1W Contact PlugN+ Drain W Via PlugCMOS截面图Me
习题3——半导体器件1.二极管导通电压UD UO1≈0UO3≈-≈2VUO5≈≈-2V2. 解:(a)图实际上是一个由二极管构成的与门参书P295图11-193. 解:正半周当 ui<时D1 D2截止uo=ui当ui>时D1导通D2截止uo= 负半周当 ui>-时D1 D2截止uo=ui当ui<-时D1截止D2导通uo= -4.
P集电结C集电极E发射极N 型 Si 衬底Fundamental of Semiconductor DevicesChapter 2 Basic Properties of Bipolar Junction TransistorsP 隔离区Fundamenta
半导体器件物理复习题四.P-N结二极管1.在P-N结外加正偏Va时利用关系式Vbi=VTln(NANDni2) 导出N区和P区空间电荷区边缘处的少子浓度相关的边界条件是:2.画出正偏电压下空间电荷区边缘附近过剩少数载流子分布图指出少子浓度是按何种关系分布的3. 假如硅P-N结其掺杂浓度是NA=2X1016cm-3ND=5X1015cm-3当T=300K时外加正偏电压Va=计算空间电荷区边缘处
半导体器件基础
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