第10章 配位平衡与配位滴定法配位滴定法是以配位反应为基础的滴定分析方法是广泛应用于测定金属离子的方法之一由于配位滴定法的基础是配位化合物和配位平衡因此本章首先介绍配位化合物的概念和溶液中配位平衡的基本理论然后学习配位滴定法的基本原理及应用 配位化合物的基本概念配位化合物简称配合物也称络合物如[Ag(NH3)2]Cl[Cu(NH3)4]SO4等配位化合物数量很多对配位化合物的研究已发展成一个主
⑤配体浓度和体系温度:浓度大配位数高温度高配位数下降NH3C[Fe(CO)5]六氯合铂(Ⅳ)酸(俗名氯铂酸)3) 中心离子的空轨道在成键过程中进行了 杂化杂化轨道的类型决定配合物的空 间构型未成对电子数 形成配合物时中心离子全部采用外层(n层)空轨道(nsnp和nd)进行杂化而形成的配合物sp3d2杂化 中心离子提供外层(n层)和次外层 (n-1层)空轨道参与
第七章 配位平衡和配位滴定法配位化合物的定义组成和命名? ?配合物的命名2. 含配阴离子的配合物的命名命名次序:先配离子后外界金属离子两者之间加一个酸字如:若外界不是金属原子而是H原子则命名为酸CaY2-配合物各物种的分布=lgK1= lgK2= lgK3= lgK3=:EDTA和EDTA二钠Hg2 MLnL条件一词意味着该常数不是一个固定的数值它因具体的
第八章 配位化合物与配位滴定 2. 配位体和配位原子 有孤电子对 Na[BF4]中[BF4]-是配位体 F为配位原子. a 单基配位体(一个配位体中只有一个配位原子) 含氮配位体 NH3 NCS- 含氧配位体 H2O OH- 含卤素配位体 F- CI- Br- I- 含碳配位体 - CO
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级 Coordinationpound andplexometry第八章 配位平衡与配位滴定法11. 掌握配位化合物的组成及命名了解决定配位数的因素2. 了解配位化合物键价理论要点了解内轨型及外轨型配合物了解配合物的磁性3. 掌握配位平衡及有关计算掌握沉淀反应对配位平衡的影响并作有关计算掌握酸碱反应对配
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第一节配位化合物的基本概念第二节配位平衡第三节螯合物第四节配位滴定法第八章配位化合物与配位滴定法 由一个或几个能提供空轨道的离子或原子和一定数目的能提供孤电子对的阴离子或中性分子通过配位键的形式组成具有一定空间构型为特征的复杂离子或分子,通常称之为配位单元。含有配位单元的化合物都称为配合物。 第一节?配位化合物的基本概念第八章第一节CuSO4 + 4NH3 == [Cu(NH3)4]SO43NaF
第一节配位化合物的基本概念第二节配位平衡第三节螯合物第四节配位滴定法第八章配位化合物与配位滴定法 由一个或几个能提供空轨道的离子或原子和一定数目的能提供孤电子对的阴离子或中性分子通过配位键的形式组成具有一定空间构型为特征的复杂离子或分子,通常称之为配位单元。含有配位单元的化合物都称为配合物。 第一节?配位化合物的基本概念第八章第一节CuSO4 + 4NH3 == [Cu(NH3)4]SO43NaF
第五章 配位滴定法§5-1概述配位滴定法是以配位反应为基础的一种滴定分析方法在配位滴定中一般用配位剂做标准溶液来滴定金属离子当金属离子M与配位剂L形成MLn型配合物时MLn型配合物是逐级形成的其逐级形成产物的逐级稳定常数为: 第一级稳定常数 (均略去电荷) 稳定常数 ………. 第n级稳定常数将逐级稳定常数依次相乘就可得到各级累积稳定常数β最后一级累积
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