投影光刻机镜头的装校关键工艺与技术【关键词】投影光刻机光刻镜头装校工艺【论文摘要】重点介绍投影光刻镜头的装配结构材料和加工定心检测调整连接等关键工艺环节的基本要求工艺方法和保证措施在此基础上介绍了一种光刻镜头专用装校系统最后结合我国的光刻镜头研制现状和存在问题对今后的发展方向提出几点个人见解 第一章 前 言投影光刻镜头是微电子生产的关键工艺设备分步投影光刻机的核心部件随着微电子生产工艺不断向
投影机镜头分类投影机镜头分为广角镜头(也就是口语中的短焦镜头)超短焦广角镜头长焦镜头数字鱼眼镜头4种从原理上来说数码相机投影机的镜头都是光学镜头都是利用了光的折射原理都用到了透光镜它们的本质其实是相同的这是它们二者作为一种最基本的光学器件意义上的相似点但由于投影机与相机之间的应用性质不同以及所要取得的效果也不同因此它们各自会在具体的细节设计与功能上表现出不同之处: 第一个区别是有无光圈这个器
微米纳米技术研究中心Institute of Micro and Nano Technology.NUC.EDU单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式MEMS工艺 ——光刻技术石云波 3920397(O)shiyunbonuc.edu主要内容光刻技术光刻技术的发展制版软光刻1.光刻( Lithography )
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单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第 5 章 光学光刻光刻曝光刻蚀光源曝光方式 光刻概述 评价光刻工艺可用三项主要的标准:分辨率对准精度和生产效率定义:光刻:是利用类似于洗印照片的原理通过曝光和选择性化学腐蚀等工序将掩膜版上的集成电路图形印制到硅片上的精密表面加工技术 目的:在二氧化硅氮化硅多晶硅和金属等薄膜表面的光刻胶上形成与掩膜版完全对应的几
软胶囊工艺与关键技术 广东某药厂软胶囊总工程师:13617810731免费提供技术咨询 2011年7月15日?目????录1.前言???????????????????????????????????????????2.第一章??有关软胶囊制备的概
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级Jincheng Zhang掌握光刻胶的组成PR 和 –PR的区别描述光刻工艺的步骤四种对准和曝光系统Explain relationships of resolution and depth of focus to wavelength and numerical aperture.光刻概述 Photolithography
第40卷第12期
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