建立方程
level培训内容Start:运行一个准备好的工艺或启动正在暂停的工艺Stop:停止正在运行工艺在任一时间按下Start按钮被终止的工艺将被继续运行Standby:如果没有运行工艺按下Standby所有设备参数恢复默认值和Standby状态下设定值如果正在运行工艺按下Standby使工艺一直保持在正在运行的这一步在按下Stop按钮之后按下Standby将自动终止工艺3 关机操作
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第十一章 分子扩散 §11-1 分子扩散系数 §11-2 传质微分方程 分子传质包括分子扩散热扩散压力扩散和除重力以外的其他外力引起的强迫扩散分子扩散现象最常见其它型式扩散存在的同时必发生分子扩散分子扩散是在静止的系统中由于存在浓度梯度而发生的质量传递
化学反应工程(Chemical Reaction Engineering)西南科技大学 由于分子扩散涡流扩散和流速分布等原因实际反应器中的流动状况常常要偏离理想流动需要用流动模型来描述流动模型可以分成: 第四节 非理想流动模型ChapterⅤ 停留时间分布与流动模型 一 离析流模型 所以反应器出口的平均浓度可以表示为: 这时 浓度为 停留时间介于 之间的流体粒子所占的比率为 §5-4
分子热运动的必然结果布朗运动公式:是扩散的推动力装置中上下两池有完全吻合的光滑表面先在下池中装入溶液再在上池中装入溶剂平滑的推动上池直至两池对齐(f值由D算出)
参考: 《微电子制造科学原理与工程技术》第3章扩散(电子讲稿中出现的图号是该书中的图号)3)常用的掺杂杂质1)扩散运动:物质的随机热运动趋向于降低其浓度梯度 即存在一个从高浓度区向低浓度区的净移动2)扩散工艺:利用杂质的扩散运动将所需要的杂质掺入硅 衬底中并使其具有特定的浓度分布3)研究杂质在
扩散:默认值时为扩散时图片中图像的边缘处会发生溶解一样的扩散现象 选项为变暗优先时图像中颜色较暗的地方才会发生扩散现象 选项为变亮优先时图像中颜色较亮的地方才会发生扩散的现象 选项为各项异性时所有的图像都会发生扩散的现象使整个图像看起来有模糊的感觉拼贴:默认值时图片给人一张张小图拼凑起来的感觉还可以改变空白区域的拼凑线条的颜色以及拼凑的方向 增大拼贴数值图片拼
53分子扩散与单相传质531 分子扩散532 单相分子扩散533 单相对流传质534 界面上的浓度53 分子扩散与单相传质吸收过程: (1)A由气相主体到相界面,气相内传递;(2)A在相界面上溶解,溶解过程;(3)A自相界面到液相主体,液相内传递。单相内传递方式:分子扩散;对流扩散 。1.分子扩散与菲克定律531 分子扩散分子扩散现象:分子扩散:在静止或滞流流体内部,若某一组分存在浓度差,则因分子
化学反应工程(Chemical Reaction Engineering)西南科技大学一孔扩散 当孔内外无压差时没有层流流动问题当有浓度差存在时有组分的扩散存在使用费克定律: 设入为分子平均自由程 ra为平均孔半径第三节 气体在多孔介质中的扩散chapterⅥ 多相系统中的化学反应与传递模型 其中平均孔径的单位是cm 当 ≤0.01时属于正常的扩散--孔内扩散于气体的自由扩散差别不大
Centrotherm扩散炉机台主体由装载系统TGA炉体部分和气源柜四部分组成其各部分功能如下: 1.装载系统:用于将上料台上的石英舟及未扩散硅片送入炉内以及将扩散完成的硅片传送到上料台 (Toxic Gas Exhaust):用于驱动炉门吸收在进舟和出舟过程中可能泄漏出来的有毒气体 3.炉体部分:机台的核心部分由五个炉体及相关的电源系统和控制系统组成
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