相关文档

• 扩散CT炉子.ppt

  level培训内容Start：运行一个准备好的工艺或启动正在暂停的工艺Stop：停止正在运行工艺在任一时间按下Start按钮被终止的工艺将被继续运行Standby：如果没有运行工艺按下Standby所有设备参数恢复默认值和Standby状态下设定值如果正在运行工艺按下Standby使工艺一直保持在正在运行的这一步在按下Stop按钮之后按下Standby将自动终止工艺3 关机操作

• Centrotherm扩散炉.ppt

  Centrotherm扩散炉机台主体由装载系统TGA炉体部分和气源柜四部分组成其各部分功能如下： 1.装载系统：用于将上料台上的石英舟及未扩散硅片送入炉内以及将扩散完成的硅片传送到上料台 （Toxic Gas Exhaust）：用于驱动炉门吸收在进舟和出舟过程中可能泄漏出来的有毒气体 3.炉体部分：机台的核心部分由五个炉体及相关的电源系统和控制系统组成

• 外扩散因子-内扩散因子.ppt

  建立方程

• Centrotherm扩散炉培训.ppt

  Centrotherm扩散炉培训培训内容开机操作生产操作关机操作维护保养 生产提示开机操作（一）1、打开气柜压缩空气的手动阀并调节调压阀使其压力在6Bar左右。2、打开气柜氮气和氧气手动阀，并调节调压阀使其压力在2Bar左右。 开机操作（二）3、打开电气柜上的“Main Switch”在“ON”位置，设备上电；CMI电脑自动启动。 4、打开设备冷却水，先开出水阀，再开进水阀。检查水压在3-6kg

• 扩散炉工艺文件.docx

  扩散炉工艺报告太阳能电池板原理介绍：太阳能电池是一对光有响应并能将光能转换成电力的器件能产生光伏效应的材料有许多种如：单晶硅多晶硅非晶硅砷化镓硒铟铜等它们的发电原理基本相同现以晶体为例描述光发电过程P型晶体硅经过掺杂磷可得N型硅形成P－N结当光线照射太阳能电池表面时一部分光子被硅材料吸收光子的能量传递给了硅原子使电子发生了越迁成为自由电子在P－N结两侧集聚形成了电位差当外部接通电路时在该电压

• 扩散炉常见故障及维护.ppt

  单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式扩散炉常见故障及维护Tempress扩散炉1TUBE尾气压力偏高检查尾气管是否被偏磷酸堵塞检查尾气压力控制器是否损坏或需要重新校正检查进入尾气压力控制器的氮气调节阀是否关闭2TUBE尾气压力偏低检查炉管是否存在缺口或裂口检查炉门是否关闭不良检查炉门是否被偏磷酸腐蚀或磨损检查进入炉管的氮气气管或接头是否漏气检查进入尾气压力控制器

• 第七章分子扩散.ppt

  单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第十一章 分子扩散 §11-1 分子扩散系数 §11-2 传质微分方程 分子传质包括分子扩散热扩散压力扩散和除重力以外的其他外力引起的强迫扩散分子扩散现象最常见其它型式扩散存在的同时必发生分子扩散分子扩散是在静止的系统中由于存在浓度梯度而发生的质量传递

• 扩散.ppt

  分子热运动的必然结果布朗运动公式：是扩散的推动力装置中上下两池有完全吻合的光滑表面先在下池中装入溶液再在上池中装入溶剂平滑的推动上池直至两池对齐（f值由D算出）

• 扩散.ppt

  参考： 《微电子制造科学原理与工程技术》第3章扩散(电子讲稿中出现的图号是该书中的图号)3）常用的掺杂杂质1）扩散运动：物质的随机热运动趋向于降低其浓度梯度 即存在一个从高浓度区向低浓度区的净移动2）扩散工艺：利用杂质的扩散运动将所需要的杂质掺入硅 衬底中并使其具有特定的浓度分布3）研究杂质在

• 扩散炉的现状与展望.docx

  扩散炉的现状与展望一 概述 j4 j- p7 T4 U进入21世纪电子信息产业的持续高速发展激励和带动了集成电路产业的发展这就为微电子产业发展提供了空前广阔的发展空间也为半导体专用设备提供了巨大的市场潜力( K [8 B??`从微电子行业发展看半导体器件设计向高密度高集成度的方向迅速发展对半导体集成电路新工艺新技术新设备提出了越来越高的要求当前硅片的尺寸由直径150mm发展到300mm超大规模集