大面积高精度磁控溅射匀胶铬版技术开发总结报告深圳美精微:陈玉兰 张焕全研制时间:研发中试:1998、102002/09 中试产量化:2002/102004/10 研制依据:近年来,由于LCD市场的迅速发展,国内低阻ITO的研制成功,给STN-LCD在国内的发展创造了前提。国内若干大厂家,纷纷考虑进行STNLCD生产,本是集菲林、凸版、铬版于一体的专业制版厂家,自然敏锐的觉察到这个市场信息,
6 大面积高精度磁控溅射匀胶铬版技术总结报告2002-10-11研制时间 研发中试:1998/102002/09中试产量化:2002/102004/10 研制依据近年来,由于LCD市场的迅速发展,国内低阻ITO的研制成功,给STN-LCD在国内的发展创造了前提。国内若干大厂家,纷纷考虑进行STNLCD生产。深圳市美精微经过近10年的持续发展,其净资产已达3000万,资金比较雄厚,多年的研发工
11 大尺寸匀胶铬版技术开发项目可行性研究报告深圳市美精微光电股份有限二○○二年七月目录一、总论(一)项目概述(二)项目的社会经济意义(三)项目的优势和风险(四)项目的计划目标二、申报企业情况(一)申报企业基本情况(二)企业人员及开发能力论述(三)企业财务经济状况(四)企业管理情况(五)企业发展思路三、项目的技术可行性和成熟性分析(一)项目的技术创新性论述(二)项目的成熟性和可靠性论述四、项
深圳市美精微光电股份有限大面积高精度磁控溅射匀胶铬版产品研制技术标准前言: 本标准适用于产品研制过程中,为制定工艺规范和质量管理文件的根据,随着研制过程的完成以及用户的信息反馈,本标准将不断完善和成熟。一、铬版生产的工艺流程3mm浮法玻璃切割边加工(磨边、倒棱、倒角)清洗初检抛光清洗----中检(合格)清洗镀膜清洗膜检合格清洗甩胶(合格)终检包装附注: (1)抛光中检不合格者返工重新抛光(
深圳市美精微光电股份有限大面积高精度磁控溅射匀胶铬版产品研制技术标准前言: 本标准适用于产品研制过程中,为制定工艺规范和质量管理文件的根据,随着研制过程的完成以及用户的信息反馈,本标准将不断完善和成熟。一、铬版生产的工艺流程3mm浮法玻璃切割边加工(磨边、倒棱、倒角)清洗初检抛光清洗----中检(合格)清洗镀膜清洗膜检合格清洗甩胶(合格)终检包装附注: (1)抛光中检不合格者返工重新抛光(
5 大面积高精度磁控溅射匀胶铬版技术总结报告2002-10-08一、 研制依据市场需求:近年来国内LCD产业迅速发展,用菲林作为光掩膜版已不能满足生产需求,必须寻找一种比菲林掩模精度更高、稳定性更好、使用寿命更长更适用于大规模生产使用的光掩模。即大面积高精度光刻掩膜版。技术储备:美精微是菲林掩模专业厂家,在多年的研发生产过程中,掌握了CAD/CAM技术及菲林掩模、铬版制作等生产工艺。同时,本
技 术 总 结 报 告 22组:汪永威 李潇 王占东 题目:恒温箱测控系统摘要:在工业产品及家庭电器中经常要用到恒温系统而这些恒温系统的性能经常对这些产品的总体性能起很重要的作用本次实习设计采用华邦系列W77E58单片机对温箱进行控制并通过Keil 51开发软件方针出具有交互式测控系统解决了在恒温系统中交互控制的问题关键
鉴定材料之二技术总结报告威海磊升建材科技有限二〇一一年十一月二十三日概况该产品以独特的T字形设计使砌块的竖向灰缝均为折线型最大限度的消除灰缝对保温带来的不利影响产品内部设有空气隔离层芯孔中填充多孔优质保温材料以实现砌块的自保温同时可以更好地提升保温效果从而实现墙体结构保温与节能一体化解决了以往外贴式保温材料墙体开裂脱落等质量通病同时该产品以经过机械加工处理的建筑垃圾(废弃混凝土砂浆和废弃粘土砖
开发者韦 绍 宝日 期2005-10-31部 门工程开发部审 核整 理韦 绍 宝报 送束总赵工秦工题目:硅胶BSB336T的开发一.开发目的开发新硅胶材料替代 SE-9186L CLEAR用于消除LCD因上PIN脚点UV胶固化而造成的上脚彩虹和防止LCD夹缝内PIN腐蚀二.材料说明1.型号:BSB336T2.制造商:国产中山宝盛化学(BOSUN-CHEM)3.特性:表征:透明无色中黏
项目开发总结报告 TOC o 1-3 h z HYPERLINK l _Toc521463250 1引言2 HYPERLINK l _Toc521463251 编写目的2 HYPERLINK l _Toc521463252 项目背景2 HYPERLINK l _Toc521463253 定义2 HYPERLINK l _Toc521463254 参考2
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