椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)介质n1 界面1薄膜n2界面2衬底n3Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量
椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)介质n1 界面1薄膜n2界面2衬底n3Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量
实 验 报 告04级6系 王朝勇PB04210066 实验题目: 椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率实验目的:1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理。2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法。实验原理:设介质层折射率分别为n1、n2、n3,φ1为入射角,在界面1和界面2处会产生反射光和折射光的多光束干涉。 用2表示相邻两分波的相位差,其中=,用r1p、r1s表示光线的p分量、s分量在界面1的反射系数,用r
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椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)介质n1 界面1薄膜n2界面2衬底n3Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量
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实验十 椭圆偏振仪实验课程名称开放物理实验实验项目实验 椭圆偏振仪实验 实验内容1测量反光板的布儒斯特角2用消光法通过椭圆偏振仪对透明薄膜厚度与折射率进行测量的基本原理和方法实验方式学生研究式独立实验为主教师启发式一对一指导为辅教学重点 测量原理和方法教学难点 将仪器将调整到最佳状态然后进行测量教学时数4学时授课对象二三年级本科生学时分配2学时 研究实验原理测量方法熟悉实验仪器2学时 进行实验
椭偏仪测量薄膜厚度和折射率第 4 页 共 NUMS 4 页林盛(PB06210445) 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验报告组别:69组院系:0611 :林盛 :PB06210445实验题目:椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的:了解椭偏仪测量薄膜参数的原理,初步掌握反射型椭偏仪的使用方法。实验原理:椭圆偏振光经薄膜系统反射后,偏振状态的变化量与薄膜的厚度和折射率有关,因此只要测量出偏
7 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换 椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动
7 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换 椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动
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