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椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)介质n1 界面1薄膜n2界面2衬底n3Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量
椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)介质n1 界面1薄膜n2界面2衬底n3Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量
实 验 报 告04级6系 王朝勇PB04210066 实验题目: 椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率实验目的:1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理。2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法。实验原理:设介质层折射率分别为n1、n2、n3,φ1为入射角,在界面1和界面2处会产生反射光和折射光的多光束干涉。 用2表示相邻两分波的相位差,其中=,用r1p、r1s表示光线的p分量、s分量在界面1的反射系数,用r
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椭偏仪测量薄膜厚度和折射率实验目的1了解椭偏仪测量薄膜参数的原理2初步掌握反射型椭偏仪的使用方法实验原理在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的通常,设介质层为n1、n2、n3,φ1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(1-1)介质n1 界面1薄膜n2界面2衬底n3Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量
7 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换 椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动
7 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换 椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动
7 椭偏仪测量薄膜厚度和折射率赵龙宇 PB06005068椭圆偏振测量(椭偏术)是研究两媒质界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法,其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换 椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测
\* MERGEFORMAT 3 椭偏仪 童力PB05210381实验目的,实验原理:详见实验预习报实验内容:1、调节载物台水平、光路共轴;2、定位起偏器、检偏器、调整偏振片;3、本次实验选取的是4号样本,其中膜厚度理论值:d=440nm折射率理论值:n=20将待测样品放置在载物台,调整望远镜筒至320o,开始测量:(1)将波片于起偏器的夹角调整至45o,测得光线最暗时检偏器和起偏器的角度,
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