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单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级§3-5 晶体管的反向特性 当发射极开路时IE = 0 但这并不意味VBE = 0 那么VBE 应当为多少呢根据边界条件知当VBC < 0 时在基区中靠近集电结的一侧有: 1浮空电势 基区中的部分少子电子被集电结上的反偏扫入集电区但因 IE = 0 基区少子得不到补充使在靠近发射结一侧有:np(
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单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第 3 章 双极结型晶体管 3.1 双极结型晶体管基础 PN 结正向电流的来源是多子所以正向电流很大 反向电流的来源是少子所以反向电流很小 如果能用其他方法给反偏 PN 结提供大量少子就能提高反偏 PN 结的电流 给反偏 PN 结提供少子的方法之一是在其附近制作一个正偏 PN 结使正偏
(1-2)式中 代表电位移 当载流子浓度和电场很小而载流子浓度的梯度很大时则漂移电流密度远小于扩散电流密度可以忽略漂移电流密度方程(1-10)简化为(1-19)(1-7)(1-29)
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单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级 5.4 MOSFET 的亚阈区导电 本节以前的漏极电流公式只适用于 VGS > VT 并假设当 VGS < VT 时 ID = 0 但实际上当 VGS < VT 时MOSFET 仍能微弱导电这称为 亚阈区导电这时的漏极电流称为亚阈电流记为 IDsub 定义:使硅表面处于本征状态的 VGS 称为
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IC (Integrated Circuit)概述 双极型集成电路基础 MOS集成电路基础功耗延迟时间可靠性1947 晶体管发明 1952 IC设想1958 IC诞生1962 DTLTTLMOS1968 MOS存储器 1971 微处理器1978 64kRAM 10万Tr VLSI 1985 1M DRAM 225万Tr VLSI 目前 微米CMOS技术1
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