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第 26 卷第4 期
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湖南大学
平衡磁控溅射放电和薄膜沉积磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,较之蒸发镀膜,在很多方面优势相当明显。作为一项已经发展较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。磁控溅射技术得以广泛的应用,是由该技术有别于其它镀膜方法的特点所决定的。可归纳为:(1)可制备成靶材的各种材料均可作为薄膜材料,包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质,尤其适合高熔点和低蒸汽压材料的沉积镀膜
? 1994-2007 China Ac
万方数
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