磁控溅射技术优缺点磁控溅射自问世后就获得了迅速的发展和广泛的应用有力地冲击了其它镀膜方法的地位主要是由它以下的优点决定的:1沉积速度快基材温升低对膜层的损伤小2对于大部分材料只要能制成耙材就可以实现溅射3溅射所获得的薄膜与基片结合较好4溅射所获得的薄膜纯度高致密性好成膜均匀性好5溅射工艺可重复性好可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜6能够精确控制镀层的厚度同时可通过改变参数条件控制组成薄膜的
磁控溅射镀膜机技术要求设备用途能够进行磁控溅射蒸发基片台可用射频电源加负偏压对基片进行反溅清洗活化辅助溅射功能该设备主要用来开发纳米级导电膜半导体膜绝缘膜以及镍钴磁性膜等主要技术指标真空腔室304优质不锈钢真空腔室上开盖结构观察窗1套真空系统涡轮分子泵直联旋片泵准无油真空系统数显复合真空计真空极限优于×10-5 Pa抽速从大气抽至×10-3 Pa ≤ 15min基片台尺寸最大可镀基片尺寸面积
磁控溅射镀膜简介 溅射薄膜靶材按其不同的功能和应用可大致分为机械功能膜相物理功能膜两大类前者包括耐摩减摩耐热抗蚀等表面强化薄膜材料固体润滑薄膜材料 后者包括电磁声光等功能薄膜材料靶材等 具体应用在玻璃涂层 (各种建筑玻璃ITO透明导电玻璃家电玻璃高反射后视镜及亚克力镀膜) 工艺品装饰镀膜 高速钢刀具镀膜 切削刀具镀膜 太阳能反光材料镀膜 光电半导体光磁储存媒体被动组件平面显示器微机电光学组件及各
K550XK500X磁控管冷溅射仪特点● 全自动控制● 低电压溅射● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm)● 具有倾斜装置的特殊旋转台● 均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm)● 165 mm(6英寸)腔室● 可接膜厚监视器实时监测镀覆层厚度优点● 易操作● 无需冷却样品台● 精确的再次涂层● 适合各种样品● 膜厚度重复性好● 容易装载或卸载样品● 可预设沉积厚度K550X具有可倾斜的旋转样
射频溅射 射频溅射是适用于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法由于直流溅射(含磁控溅射)在溅射靶上加负电压因而就只能溅射导体材料溅射绝缘靶时由于放电不能持续而不能溅射绝缘物质为了沉积介质薄膜采用高频电源将使溅射过程摆脱靶材导电性的限制通常采用的射频频率为 当交流电源的频率低于50kHz时气体放电的情况与直流时候的相比没有根本的改变当频率超过50kHz以后放电过程开始出现变化:1在两
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生态能源和材料科学与工程(EMSE2012)采用射频磁控溅射技术实现染料敏化光电池阻挡层的沉积Youl-moon sung庆星大学电气工程学院釜山608-736韩国摘要用染料分子电解质(i-i3)对已使用透明可导电的掺氟二氧化锡(FTO)染料敏化电池附着玻璃多孔TiO2层镀Pt的FTO玻璃结构在这项工作中之前的纳米多孔二氧化钛层上的FTO玻璃去其致密层小于100nm的Tio2作为电子阻挡层直
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The equipment in my lab -negativeThin film materialsNi-Cr alloy This type of battery will improve the power of energy efficiency to 40 from . The battery raw material costs lower than tradition
先进磁控溅射真空镀膜技术及专用设备 研发中心以先进磁控溅射为核心可为客户量身定制磁控溅射连续式自动生产线生产型磁控溅射旋转靶单机科研型多靶多功能磁控溅射仪等专属产品应用领域包含但不限于压电滤波器石英晶振电磁屏蔽贴片电感磁芯敏感陶瓷元器件通信基站高Q腔体滤波器薄膜电路蜂鸣器先进电路印制板等 中心主推的电子陶瓷磁控溅射金属化技术与传统的电镀丝印—烧结真空蒸发等金属化工艺相比具有显著的节能
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