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实验名称:实验直流溅射法制备金属薄膜班级:信息0503 实验日期::宋江凌:40550070同组人:【目的要求】:直接的接触薄膜材料对薄膜材料有一个直观的感性认识 了解喝学会直流溅射制备金属的原理和方法 学会制备干涉法测量薄膜厚的薄膜样品的方法【实验原理】:小型直流溅射仪它可以在较低的真空度下进行直流溅射因此简化了真空系统只需用机械真空泵提供12Pa的真空度即可大大缩短了实验时间
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按一下以編輯母片標題樣式按一下以編輯母片第二層第三層第四層第五層真空溅射镀膜技术目录一溅射镀膜的相关概念二溅射的基本原理三溅射镀膜的类型四溅射镀膜相关外包厂简介五溅射镀膜案例分析 表面技术工程是将材料表面与基体一起作为一个系统进行设计利用表面改性技术薄膜技术和涂层技术使材料表面获得材料本身没有而又希望具有的性能的系统工程 薄膜技术是表面工程三大技术之一一般把小于25u
单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版文本样式第二级第三级第四级第五级第5章 溅射镀膜 所谓溅射是指荷能粒子轰击固体表面(靶)使固体原子(或分子)从表面射出的现象射出的粒子大多呈原子状态常称为溅射原子用于轰击靶的荷能粒子可以是电子离子或中性粒子因为离子在电场下易于加速并获得所需动能因此大多采用离子作为轰击粒子该粒子又称入射离子由于直接实现溅射的机构是离子所以这种镀膜技术又称为离子溅射镀膜或淀
湖南大学
课程概况 厚膜技术 超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光Al丝键合 PdAu Y Y PtPdAg Y 25超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光超大规模集成电路硅衬底抛光37394143454749228202
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第l4 卷第5 期
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